恩樂科EDI整機80T/H

深圳恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機和超聲波清洗機使用。 型號：ELK-1000L ELK-2000L ELK-3500L ELK-5000L ELK-7000L ELK-100000L

美國海德能反滲透膜CPA3-LD、PROC10

恩樂科和成都道和賽能公司共同研發的新一代5MW大功率IGBT制氫電源，適配AEM、?PEM電解槽用IGBT全控制氫電源、堿性電解槽用。業績：上海氫鸞、北京航宇、穩石氫能、浙江氫舟能源、中集集電、陜西華秦。

深圳恩樂科晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進入，所以需要注入純凈的CO2。

恩樂科EDI用途和優點：1，為電力、化工、鋼鐵、微電子、半導體、光伏、印染、線路板等行業提供高純水。2，無需酸堿再生，完全取代混床，綠色環保。3，無濃水循環，無需加鹽。4，模塊化設計，占地空間小，能耗超低。5，擁有核心專利技術，極水單獨排放通道，具有 散熱好，使用壽命長，安全性高等優點。