深圳恩樂科半導(dǎo)體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler二氧化碳加碳機(jī)超純水電阻調(diào)節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時(shí)帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產(chǎn)品本身有堿性物質(zhì)，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進(jìn)入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機(jī)和超聲波清洗機(jī).型號：ELK-1000L、 ELK-2000L、ELK-3000L、 ELK-3500L、ELK-4000L、ELk-5000L、ELK-7000L

流量范圍：10L/H-7000L/H

“恩樂科”品牌二氧化碳發(fā)泡機(jī)產(chǎn)品介紹（超純水防靜電裝置） 觸摸屏款

產(chǎn)品功能：

超純水防靜電裝置，又稱co2 bubbler(二氧化碳發(fā)泡機(jī)、二氧化碳鼓泡機(jī))，去離子水電阻率調(diào)節(jié)裝置，加碳機(jī)等等。其原理是向高電阻率的純水中添加高純二氧化碳， 在水中產(chǎn)生適量的離子增強(qiáng)純水的導(dǎo)電性，降低純水的電阻率，防止在晶圓劃片制程、清洗等半導(dǎo)體、TFT加工過程中產(chǎn)生靜電損傷產(chǎn)品，消除硅屑的靜電吸附便于清洗干凈， 最后烘干后二氧化碳揮發(fā)不殘留任何雜質(zhì)，不造成二次污染。超純水防靜電裝置和設(shè)備，可有效控制微電子工業(yè)生產(chǎn)制程中的靜電危害，防止靜電吸附導(dǎo)致產(chǎn)品因靜電放電受到損傷， 防止靜電破壞和微粒子的表面附著，大大提高產(chǎn)品良品率，降低生產(chǎn)成本。

設(shè)備原理： 

本公司經(jīng)過多年的研發(fā)和試驗(yàn)，生產(chǎn)ELK 系列超純水防靜電裝置，本裝置全部采進(jìn)口優(yōu)質(zhì)材料和儀表，設(shè)計(jì)原理是通過膜接觸器來實(shí)現(xiàn)超純水的潔凈CO2 無污染注入。膜接觸器的特點(diǎn)是氣體可以透析式穿過膜表面均勻溶解到水里，而水和微粒雜質(zhì)卻很難透過膜。用這種特制膜將CO2 氣體和超純水隔開， 通過設(shè)備中的精密調(diào)節(jié)裝置可以控制CO2 在水中的溶解量， 從而實(shí)現(xiàn)精確控制水的電阻率。產(chǎn)品水的電阻率可以很方便且精確地調(diào)整到0.1-2MΩ?cm范圍內(nèi)。此產(chǎn)品可以消除產(chǎn)品表面產(chǎn)生的靜電對產(chǎn)品造成靜電吸附污染、靜電放電損傷等危害，大大提高了產(chǎn)品的良品率。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于微電子和半導(dǎo)體行業(yè)，價(jià)格只有進(jìn)口產(chǎn)品的二分之一左右， 經(jīng)過多家客戶2年以上的測試評價(jià)， 結(jié)論是完全可以是替代進(jìn)口產(chǎn)品。 
設(shè)備特點(diǎn)： 
1、全部材料采用進(jìn)口超純水管配件和儀表 
2、設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單緊湊， 占地少，安裝方便，故障率低 
3、零延遲響應(yīng)流量變化，保證產(chǎn)水電阻率的高穩(wěn)定性 
4、用氣省，耗電少，節(jié)能環(huán)保 
5、低用水流量情況下電阻率值的精確穩(wěn)定控制
6、自適應(yīng)混合方式，產(chǎn)品水的電阻率可以很方便且精確地調(diào)整到0.1-2MΩ?cm范圍內(nèi) 
7、純機(jī)械靜態(tài)方式工作，故障率極低 
8、采用最先進(jìn)透氣膜方式以及無需空氣切入， 產(chǎn)水品質(zhì)完全超越同類產(chǎn)品

型號：   

ELK-1000L  、ELK-2000L 、ELK-3500L 、ELK-4000L 、ELK-5000L 、ELK-6000L 、ELK-7000L、 

流量范圍：20-7000L/H

適用行業(yè)：

1、 微電路芯片切割和清洗2、光掩膜切割和清洗 3、晶圓切割和芯片清洗 4、半導(dǎo)體硅片切割和清洗5、太陽能電池片切割和清洗 6、TFT面板切割和清洗 7、特殊工業(yè)的控制超純水電阻