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深圳市恩樂科環?？萍加邢薰?
恩樂科二流體液晶模組清洗機 型號ELK-820S
案例詳情
恩樂科全自動二流體離心清洗機
型號ELK-820S
恩樂科全自動二流體離心清洗機主要用于晶圓劃片后清洗、攝像頭模組表面微塵清洗、PCB在固晶（D/B）前的清洗、芯片固晶（D/B）、打線（WB）之后清洗、LENS、VCM、HOLDER+IR組裝前的清洗，通過高壓純水沖洗及水氣二流體清洗，從而實現了有效去除Holder，CMOS本體，Wafer等表面微塵顆粒。
恩樂科全自動二流體離心清洗機特點：可以實現自動上下料；可更換清洗盤清洗多種產品，清洗盤按產品定做；全自動二流體離心清洗機操作方便快捷，更具人性化；采用二流體清洗，清洗精度高，對產品零損傷，純水消耗量極小旋轉式噴桿，避免二次污染產品；全自動二流體離心清洗機高速離心設計，轉速可調節100-1500R/Min；配備離子風機靜電消除裝置、腔壁加熱裝置，輔助清洗達到最佳效果；縮減寬度的省空間設計，減少無塵車間的占用面積；
恩樂科全自動二流體離心清洗機整機不銹鋼機身，能耐酸堿，對工作環境無污染，鏡面機殼使設備保養時易于清理；配備2級空氣過濾系統，壓縮空氣符合ISO8573.1標準；完全使用超純水清洗，符合RoHS標準。全自動二流體離心清洗機一鍵式操作，整個清洗過程全自動完成，無需人工干預；離心速度可調；鏡面不銹鋼結構，并設有工藝觀察窗口，實用美觀；全自動二流體離心清洗機專業設計，二級過濾，無二次污染；能耗低，運行噪音小，環境友好；外形緊湊，占地面積小，調配便捷；全自動二流體離心清洗機霧化效果均勻，二流體壓力均勻，運行安全穩定；全體系儀表監測，并設有報警裝置；純水自動加壓過濾，確保清洗效果
全自動二流體離心清洗機參數：
設備外觀尺寸 880mm（L） × 950mm（W） × 1880mm（H）
清洗盤規格 定制（清洗盤直徑＜ 550mm)
清洗方式 二流體清洗
干燥方式 高速離心甩干
電源供應 AC380V 50HZ
總功率 7KW耗電量
清洗時: 3.5kw/h
待機時: 1kw/h
傳動馬力 3HP
環境過濾方式 0.3μm；
99.999%空氣過濾方式 1μm×1；0.01μm×1
離心轉速 100-1500RPM
純水消耗量 0-7L/Min
氣體消耗量 10-30m /H
清洗壓力
液體壓力：3-8Kgf/cm
空氣壓力：0.2-0.5MpaDI
水供應 流量：＞7LPM
電阻率：＞17MΩ氣源供應
壓力：0.45-0.7Mpa；
流量：＞ 30m /H（潔凈度符合清洗要求）
純水入口徑 12mm軟管或PT1/2″內螺紋
氣源入口徑 12mm
氣管排水出口徑 PT 1″內螺紋
排氣口口徑 4″×2（需加強抽風 ,風速大于3m/sec）
機器凈重 約450KG
