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恩樂科半導體設備

恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler ELK-2000L

恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler ELK-2000L
案例詳情

深圳恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節裝置、超純水防靜電裝置的主要用途: 一是芯片切割劃片時帶有靜電,靜電吸附了硅屑,清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質,要在微酸性水中和才能去除,又不能有別的離子進入,所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機和超聲波清洗機.型號:ELK-500L、ELK-1000L、 ELK-2000L、 ELK-3500L、ELK-5000L、ELk-6000L、ELK-7000L、ELK-100000L 


“恩樂科”品牌二氧化碳發泡機產品介紹(超純水防靜電裝置)

產品功能:

超純水防靜電裝置,又稱co2 bubbler(二氧化碳發泡機、二氧化碳鼓泡機),去離子水電阻率調節裝置,加碳機等等。其原理是向高電阻率的純水中添加高純二氧化碳, 在水中產生適量的離子增強純水的導電性,降低純水的電阻率,防止在晶圓劃片制程、清洗等半導體、TFT加工過程中產生靜電損傷產品,消除硅屑的靜電吸附便于清洗干凈, 最后烘干后二氧化碳揮發不殘留任何雜質,不造成二次污染。超純水防靜電裝置和設備,可有效控制微電子工業生產制程中的靜電危害,防止靜電吸附導致產品因靜電放電受到損傷, 防止靜電破壞和微粒子的表面附著,大大提高產品良品率,降低生產成本。




設備原理: 
本公司經過多年的研發和試驗,生產ELK 系列超純水防靜電裝置,本裝置全部采進口優質材料和儀表,設計原理是通過膜接觸器來實現超純水的潔凈CO2 無污染注入。膜接觸器的特點是氣體可以透析式穿過膜表面均勻溶解到水里,而水和微粒雜質卻很難透過膜。用這種特制膜將CO2 氣體和超純水隔開, 通過設備中的精密調節裝置可以控制CO2 在水中的溶解量, 從而實現精確控制水的電阻率。產品水的電阻率可以很方便且精確地調整到0.1-2MΩ?cm范圍內。此產品可以消除產品表面產生的靜電對產品造成靜電吸附污染、靜電放電損傷等危害,大大提高了產品的良品率。該產品廣泛應用于微電子和半導體行業,價格只有進口產品的二分之一左右, 經過多家客戶2年以上的測試評價, 結論是完全可以是替代進口產品。 
設備特點: 
1、全部材料采用進口超純水管配件和儀表 
2、設備結構簡單緊湊, 占地少,安裝方便,故障率低 
3、零延遲響應流量變化,保證產水電阻率的高穩定性 
4、用氣省,耗電少,節能環保 
5、低用水流量情況下電阻率值的精確穩定控制
6、自適應混合方式,產品水的電阻率可以很方便且精確地調整到0.1-2MΩ?cm范圍內 
7、純機械靜態方式工作,故障率極低 
8、采用最先進透氣膜方式以及無需空氣切入, 產水品質完全超越同類產品

型號:   


ELK-500L、ELK-1000L  、ELK-2000L 、ELK-3500L 、ELK-4000L 、ELK-5000L 、ELK-6000L 、ELK-7000L、 ELK-8000L

ELK-10000L、ELK-15000L 、ELK-20000L、ELK-25000L、ELK-30000L

流量范圍:1-100M3/H

適用行業:

1、 微電路芯片切割和清洗2、光掩膜切割和清洗 3、晶圓切割和芯片清洗 4、半導體硅片切割和清洗5、太陽能電池片切割和清洗 6、TFT面板切割和清洗 7、特殊工業的控制超純水電阻 



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