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深圳市恩樂科環保科技有限公司
恩樂科二氧化碳發泡機CO2 bubbler替換DIC eFLOW、NGK PRCII-2000ACD
恩樂科二氧化碳發泡機CO2 bubbler超純水防靜電裝置，替代DIC eFLOW、1AP-B02、2AP-B01、NGK PRCII-2000ACD 、PRCII-1000ACD、 PRCII-1200ACD
嵌入式二氧化碳發泡機CO2 bubbler超純水防靜電裝置ELK-1AP、ELK-2AP、ELK-3AP
小流量嵌入式二氧化碳發泡機 用于半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是晶圓切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。ELK-1AP、ELK-2AP、ELK-3AP
恩樂科臺式二氧化碳發泡機 超純水防靜電裝置ELK-10A
恩樂科CO2 bubbler 臺式二氧化碳發泡機 超純水防靜電裝置ELK-10A，ELK-20A，ELK-30A，用于半導體晶圓劃片、清洗消除產品靜電，防止產品靜電損傷。
恩樂科臺式二氧化碳發泡機CO2 bubbler ELK-20A超純水防靜電裝置
恩樂科CO2 bubbler 臺式二氧化碳發泡機 超純水防靜電裝置ELK-10A，用于半導體晶圓劃片、清洗消除產品靜電，防止產品靜電損傷。
恩樂科臺式半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler ELK-30A
恩樂科CO2 bubbler 臺式二氧化碳發泡機 超純水防靜電裝置 ELK-10A、ELK-20A、ELK-30A，用于半導體晶圓劃片、清洗消除產品靜電，半導體濕法制程，防止產品靜電損傷。
恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler ELK-1000L
深圳恩樂科晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機和超聲波清洗機.
