恩樂科全自動二流體離心清洗機主要用于晶圓劃片后清洗、攝像頭模組表面微塵清洗、PCB在固晶（D/B）前的清洗、芯片固晶（D/B）、打線（WB）之后清洗、LENS、VCM、HOLDER+IR組裝前的清洗，通過高壓純水沖洗及水氣二流體清洗，從而實現了有效去除Holder，CMOS本體，Wafer等表面微塵顆粒。

恩樂科全自動二流體離心清洗機主要用于晶圓劃片后清洗、攝像頭模組表面微塵清洗、PCB在固晶（D/B）前的清洗、芯片固晶（D/B）、打線（WB）之后清洗、LENS、VCM、HOLDER+IR組裝前的清洗，通過高壓純水沖洗及水氣二流體清洗，從而實現了有效去除Holder，CMOS本體，Wafer等表面微塵顆粒。

深圳恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機二氧化碳鼓泡機起泡機超純水電阻調節裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是晶圓切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進入。

恩樂科攝像模組二流體清洗機 型號：ELK-800S 清洗對象：COB綁定后FPC金線清洗、LENS模組、FPC軟板、COB模塊、LENS HOLDER等

深圳恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機和超聲波清洗機.型號：ELK-500L、ELK-1000L、 ELK-2000L、 ELK-3500L、ELK-5000L、ELk-6000L、ELK-7000L、ELK-100000L

深圳恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機和超聲波清洗機使用。 型號：ELK-500L ELK-1000L ELK-2000L ELK-3000L ELK-4000L ELK-5000L ELK-7000L ELK-100000L